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EDI超純水設(shè)備為集成電路清洗供給優(yōu)質(zhì)超純水

時間:2023-12-16

  集成電路是經(jīng)過氧化、光刻、擴(kuò)散、外延、蒸鋁等嚴(yán)格的技術(shù)工藝處理后,把一定數(shù)量電阻、電容、晶體管等電子元件以及它們之間的連線集成在一小塊硅片上,并焊接封裝在一個管殼內(nèi)的高精密電子器件。它的體積小、安全性能好、可靠性高,在計算機、電視機、手機、相機等電子設(shè)備的生產(chǎn)中有重要作用,能大大提高產(chǎn)品的功能穩(wěn)定性。

  集成電路中的各部分電子元件和連線精密程度很高,在制造過程中一旦遇到灰塵、固體顆粒、金屬雜質(zhì)、有機物等物質(zhì)污染,就極容易形成短路或斷路,導(dǎo)致集成電路損壞并失去原本功能。因此,在清洗集成電路時,就需要用到高純度的超純水作為清洗用水,來規(guī)避水中含有的顆粒雜質(zhì)、金屬離子、有機物、微生物等成分對集成電路造成污染的風(fēng)險。

EDI超純水設(shè)備

  EDI超純水設(shè)備是生產(chǎn)超純水的優(yōu)良產(chǎn)品,主要采用了雙級反滲透系統(tǒng)+EDI模塊的處理工藝,出水電阻率可達(dá)16 MΩ*cm(25℃)。雙級反滲透系統(tǒng)可以有效去除水中含有的各類金屬離子、細(xì)菌、微生物、有機物、礦物質(zhì)等元素,還具有良好的抗污染性能,故障率低、運行穩(wěn)定。EDI模塊能使系統(tǒng)實現(xiàn)帶電荷運行,可以加快離子遷移速度,提高設(shè)備的脫鹽率。此外,EDI模塊處理不會有污染物析出,也不會產(chǎn)生酸堿廢液,它的進(jìn)水為二級反滲透產(chǎn)水,水質(zhì)較好,脫鹽后濃水水質(zhì)仍舊優(yōu)于一級反滲透產(chǎn)水,可回流至一級反滲透產(chǎn)水箱。

  EDI超純水設(shè)備還采用了智能化程序,操作靈活,節(jié)約了人力成本,產(chǎn)水質(zhì)量可以進(jìn)行在線監(jiān)測,運行過程中也不會消耗過多能源。投資EDI超純水設(shè)備為集成電路清洗生產(chǎn)需要的超純水,具有生產(chǎn)質(zhì)量穩(wěn)定、無污染、能耗低等優(yōu)勢,性價比高。

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  編輯:新奇   技術(shù):加菲

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