超純水設(shè)備在半導(dǎo)體行業(yè)中優(yōu)勢(shì)盡顯
半導(dǎo)體在集成電路、通信系統(tǒng)、光伏發(fā)電等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,大部分的電子產(chǎn)品制造都與半導(dǎo)體息息相關(guān),承載了重要的功能。無(wú)論是從科技發(fā)展還是經(jīng)濟(jì)發(fā)展來(lái)看,半導(dǎo)體創(chuàng)造的價(jià)值都不可估量,是衡量國(guó)家科學(xué)技術(shù)發(fā)展能力和發(fā)展?jié)摿Φ闹匾蛩刂弧?/p>
半導(dǎo)體良率的提高不僅可以降低半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的生產(chǎn)成本,還能顯著提高產(chǎn)品的品質(zhì)和安全性能。超純水和半導(dǎo)體良率之間有密切的關(guān)聯(lián)性,它能用于清洗半導(dǎo)體材料以保證生產(chǎn)質(zhì)量。超純水中基本不含有任何有機(jī)物、微生物、金屬離子、細(xì)菌等物質(zhì),用于清洗半導(dǎo)體能確保其不受雜質(zhì)污染。
超純水設(shè)備是生產(chǎn)超純水的專(zhuān)用產(chǎn)品,采用了“反滲透+EDI+拋光混床”的技術(shù),生產(chǎn)出的超純水水質(zhì)能達(dá)到18MΩ*cm(25℃)。反滲透是指超純水設(shè)備中應(yīng)用了反滲透膜技術(shù),能實(shí)現(xiàn)對(duì)納米級(jí)物質(zhì)的分離去除,因而能有效分離出超純水中應(yīng)該被去除的金屬離子、細(xì)菌、和顆粒雜質(zhì)等成分。同時(shí),由于反滲透膜擁有強(qiáng)大的抗污染能力,因而在生產(chǎn)過(guò)程中,它能有效降低超純水設(shè)備的故障率,減少清洗次數(shù),延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命。
EDI技術(shù)能對(duì)超純水進(jìn)行深度脫鹽,能實(shí)現(xiàn)帶電荷運(yùn)行加速離子遷移,提高了超純水設(shè)備的脫鹽率。并且,EDI模塊運(yùn)行無(wú)污染物質(zhì)產(chǎn)出,不會(huì)產(chǎn)生酸堿廢液,環(huán)保性能很好。拋光混床模塊的進(jìn)一步處理,則有效確保了超純水設(shè)備的出水水質(zhì)。
總而言之,超純水設(shè)備具有生產(chǎn)連續(xù)穩(wěn)定、無(wú)污染、能耗低、工藝流程短、操作簡(jiǎn)單等優(yōu)勢(shì),其還采用了智能程序,可以靈活進(jìn)行操作,性?xún)r(jià)比很高。
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